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首頁-產品系統-管式爐-1200℃迷你型真空氣氛管式爐
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1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍:主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室,應用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
更新日期:2024-05-08
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廠商性質:生產廠家
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