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1200℃迷你型真空氣氛管式爐

1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍:主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室,應用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。

更新日期:2024-05-08

型號:

廠商性質:生產廠家

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